BW-FR Мембраны RO серии-выдерживают химическую очистку 30

Производительность

Comparison image of RO membrane before and after cleaning

В таких отраслях, как фармацевтика и крашение, где необходимо обрабатывать источники воды с высоким уровнем загрязнения, частая очистка является необходимым условием для обеспечения качества и эффективности производства. Поэтому выбор мембран обратного осмоса с высокой стойкостью к очистке имеет решающее значение. О BW-FR серии сопротивление обрастанию RO мембраны, Как и мембраны FilmTec, используют процесс неокислительной постобработки, значительно повышая стойкость мембран к химической очистке. Сравненный к традиционным мембранам обработки оксидации, наши мембраны могут выдержать более высокую частоту чистки, достигая над 60 циклами чистки самое большее. Это означает, что мембраны могут поддерживать высокий поток воды и скорость опреснения даже после очистки, эффективно продлевая срок службы мембран и снижая эксплуатационные расходы, что делает их идеальным выбором для приложений с высоким спросом.

BW-FR Отчет о тестах сравнения мембран RO

BW-FR Мембраны обратного осмоса, без последующей обработки окислением, устойчивы к химической очистке, с хорошим восстановлением и стабильной работой, до более чем 60 циклов очистки. Здесь мы разделяем некоторые из Сравнительные экспериментальные данные От 30 циклов очистки.

Экспериментальные методы: Одноэлементный 8-дюймовый корпус обратного осмоса соединен параллельно, а две марки устойчивых к загрязнениям мембран работают в тех же условиях. После быстрого обрастания, тест восстановления производительности кислоты и щелочи химической очистки.

Качество воды: Сточные воды заводского производства (качество сливной воды варьируется от процесса к процессу), смешанные с промышленным водоснабжением, производственные сточные воды содержат высокую ХПК, а промышленное водоснабжение имеет высокую жесткость.

Условия испытаний: Регулировка частоты преобразования давления постоянная, контроль скорости восстановления в 14%–15%.

Таблица 1: BW-FR Отчет о сравнительных испытаниях мембран обратного осмоса
Время уборки	Условия испытаний				SMBW-8040-400FR/34		BW30FR-400/34FilmTec
Время уборки	Концентрация сырой воды (μs/cm)	Темп. (°C)	Испытательное давление (psi)	PH	Скорость восстановления (%)	Поток LPM	Скорость восстановления (%)	Поток LPM
1	2140	19	175	6,3	99,27	19	99,34	20
2	2900	17	175	6	99,28	19	99,34	20
3	1141	21	175	7	99,28	19	99,36	20
4	1204	26	175	6,8	99,27	19	99,35	20
5	1390	20	175	6,7	99,24	18	99,32	20
6	1816	18	175	6,5	99,2	18	99,28	20
7	1705	19	175	6,6	99,15	18	99,17	20
8	1920	22	175	6,3	99,12	18	99,15	19,5
9	1760	21	175	6,5	99,06	18	99,12	19,5
10	1874	24	175	6,5	98,08	18	99,12	19,5
11	2103	23	175	6,2	99,1	18	99,13	19,5
12	1766	27	175	6,6	98,89	17,5	99,06	19,5
13	1985	25	175	6,7	98,89	17,5	98,95	19,5
14	1796	22	175	6,4	98,86	17,5	98,94	19
15	1620	31	175	6,6	98,84	17,5	98,95	19
16	1975	24	175	6,2	98,85	17,5	98,87	19
17	1655	26	175	6,4	98,85	17,5	98,87	19
18	1877	21	175	6,5	98,77	17,5	98,85	19
19	1680	25	175	6,4	98,69	17,5	98,6	19
20	1947	24	175	6,3	98,76	17,5	98,85	19
21	1950	22	175	6,2	98,75	17,5	98,83	18,5
22	1845	21	175	6,5	98,74	17,5	98,82	18,5
23	1796	19	175	6,3	98,69	17	98,85	18,5
24	1800	20	175	6,6	98,73	17	98,84	18,5
25	1917	19	175	6,3	98,72	17	98,8	18,5
26	1722	17	175	6,4	98,68	17	98,8	18,5
27	1690	19	175	6,4	98,65	17	98,79	18,5
28	2238	19	175	6,1	98,66	17	98,78	18,5
29	2495	18	175	6	98,65	17	98,79	18,5
30	2074	17	175	6,2	98,65	17	98,78	18,5
Анализ данных: Скорость восстановления распада мембраны Snowate составляет примерно 0,62%, в то время как у FilmTec составляет около 0,56%. Поток затухания для мембраны Snowate составляет примерно 10,5%, по сравнению с 7,5% для FilmTec. Цель этого теста-сравнить способность мембранных элементов к восстановлению после быстрого загрязнения с помощью химической очистки, включающей 30 повторений, включая кислотную и щелочную очистку. Из-за специфики этого эксперимента и значительных отличий от реальных условий эксплуатации полученные данные предназначены только для справки и не должны использоваться в качестве основы для нормальной работы.